Livraison de la dernière génération de l'appareil de mesure de haute précision EUV "Final Focus Metrology" pour la première fois

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HENSOLDT a livré pour la première fois la quatrième génération de l'appareil de mesure de haute précision Final Focus Metrology (FFM) pour l'industrie des semi-conducteurs. Ces systèmes de contrôle sont produits et développés en continu chez HENSOLDT Optronics à Oberkochen depuis 2012.
26/04/2024

1µm FFM : une optique optimisée et performante pour l'industrie des semi-conducteurs

Livraison de la dernière génération de l'appareil de mesure de haute précision EUV "Final Focus Metrology" pour la première fois

Oberkochen, 26 avril 2024 - Le spécialiste des capteurs HENSOLDT a livré pour la première fois la quatrième génération de l'appareil de mesure de haute précision Final Focus Metrology (FFM) pour l'industrie des semi-conducteurs. Le client est un fabricant de systèmes de litographie EUV dont l'identité n'a pas été révélée. Ces systèmes de contrôle sont produits et développés en continu chez HENSOLDT Optronics à Oberkochen depuis 2012. La première unité du FFM 1µm représente une étape importante dans le rôle de HENSOLDT sur le marché civil.

Le FFM est un appareil de mesure de haute précision qui analyse les lasers dans deux gammes de longueurs d'onde différentes, à savoir les gammes d'un et de dix micromètres. À l'aide de capteurs de position à grande vitesse spécialement mis au point et de capteurs de front d'onde développés en interne, les paramètres de processus critiques pour les performances des lasers à haute énergie sont déterminés, ainsi que la forme et la position des gouttelettes d'étain dans une chambre à vide poussé, qui sont nettement plus petites qu'un cheveu humain (< 30 µm).

(< 30µm). Les données déterminées par le FFM sont utilisées pour fermer la boucle de contrôle cruciale du système de lithographie et optimiser les performances et la précision d'un faisceau laser qui doit frapper trois fois les gouttelettes d'étain pour produire la lumière ultraviolette extrême (EUV) à l'avenir, influençant ainsi de manière décisive l'efficacité de la production de lumière et de l'ensemble du système de lithographie.

Le FFM joue le rôle d'unité de contrôle optoélectronique clé, 50 000 fois par seconde. Grâce au développement de la technologie 1µm de HENSOLDT, la puissance de la lumière EUV peut être augmentée à environ 400-600 watts. Sans la lumière EUV, la production des puces informatiques les plus puissantes d'aujourd'hui ne serait pas possible.

"HENSOLDT dispose d'excellentes capacités dans le domaine de la technologie infrarouge. Nous travaillons tous les jours avec la technologie d'imagerie thermique pour les applications spatiales, ce qui constitue une base essentielle pour le développement du FFM", déclare Tanya Altmann, responsable de la division Optronique et solutions terrestres. "Le FFM contribue de manière significative à la réussite de nos activités civiles".

Pour plus d'informations sur la technologie FFM, consultez notre article en ligne.

**Contact presse : **

Alexander Ogger

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Courrier : alexander.ogger@hensoldt.net

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